分析展2010（第48回）／科学機器展2010に参加します。
来る9月1日（水）から9月3日（金）までの3日間、幕張メッセ国際展示場におきまして下記の通り先端技術の粋を集めた分析機器を出展いたします。
日時:
2009年9月1日（水）〜9月3日（金）
午前10:00～午後5:00
場所:
幕張メッセ国際展示場
7A-303（アメテック・ブース
セミナープログラム
日時：9月1日（水）14:50～15:40
部屋：A-7
テーマ：新製品二重収束ICP質量分析装置SPECTRO MSと多元素同時分析ICP発光分析装置SPECTRO ARCOSの特徴 発表要旨：二重収束質量分析装置で高速・同時分析が可能である新発売のICP-MSの SPECTRO MS 及びハロゲン等の真空紫外領域が測定でき、オイル等の直接分析が可能であるICP発光分析装置 SPECTRO ARCOS の紹介
また同期間内にはスペクトロと同グループの「エダックス」の新技術説明会も開催されます。
日時：9月3日（金）15:10～15:35
部屋：A-2
テーマ：購入前必見！ あらゆる分野の品質管理に最適！ 高感度微小部蛍光X線分析装置のご紹介
発表要旨：最新の微小部蛍光X線分析装置Orbisによる食品、医薬品、化学、電気・電子分野の品質管理事例をご紹介
その他、展示会についての詳細は『分析展2010／科学機器展2010 開催について』をご覧ください。